半导体行业在生产的时候需要大量的清洗水，随着半导体工业的不断发展，对清洗水的电导性、离子含量、TOC、DO、Particles要求也越来越严格。由于半导体用超纯水对多项指标的高要求，所以在半导体行业，超纯水不同于其他行业对水的要求，半导体行业对超纯水有严格的水质要求。

　　在半导体生产工艺中，硼是P型杂质，过量会使n型硅反型，对电子、空穴浓度有影响。因此在超纯水行业中，要充分考虑硼的脱除。《Standard Guide for Ultra-Pure Water Used in the Electronics and Semiconductor Industries》(ASTM-D5127-13)标准中E1.3中要求硼离子≤0.05μg/L。如果硼离子含量能够达到更低的指标，势必会提升半导体的性能。

　　莱特莱德超纯水设备能够连续稳定的制备品质优良的超纯水，不会因为树脂再生而停止运行，设备结构设计相对靠紧，所以其占地较小，可以为企业节省很多空间，工业用超纯水设备在出厂前均需进行装置调试，所以设备故障几率较小，日常保养、维修等操作都十分简单。目前，超纯水设备已在诸多项目在运行，应用优势显著。

　　莱特莱德超纯水设备应用于某半导体企业

　　一、项目名称：广西省某半导体企业超纯水项目

　　二、项目地址：广西省

　　三、执行标准

　　《电子级水》(GB/T 11446.1-2013)

　　《Standard Guide for Ultra-Pure Water Used in the Electronics and Semiconductor Industries》(ASTM-D5127-13)

　　四、项目工艺：

　　Huncotte系统选用核子级树脂，通过独有的靶向离子交换树脂，能够有效控制系统出水的硼离子含量，硼离子含量通过IPC-MS检测，硼离子出水≤0.005μg/L远远小于ASTM-D5127-13标准中E1.3中要求硼离子≤0.05μg/L。相信更优质的超纯水，可以给半导体带来更好的性能，给半导体企业带来更强的优势。

　　莱特莱德长年致力于水处理设备的开发、研制和生产，积累了丰富的水处理技术制造经验，拥有专业的加工设备，齐全的检测手段，完善的质保体系以及合理的售后服务。