集成电路块超纯水设备概述

　　集成电路块超纯水设备生产过程中需要用到超纯水，水质的标准要符合电子工业部制定的纯水标准。在集成电路生产过程中常用到的电镀铜锡等，整个过程中需要用到不同要求的水质。所以集成电路块超纯水设备在行业中拥有重要的地位。

　　集成电路块超纯水设备原理

　　集成电路块超纯水设备供给原水进入EDI系统，主要部分流入树脂/膜内部，而另一部分沿膜板外侧流动，以洗去透出膜外的离子，SHU脂截留水中的容存离子，被截留的离子在电极作用下，阴离子向正极方向运动，阳离子向负极方向运动，阳离子透过阳离子膜，排出树脂/膜之外，阴离子透过阴离子膜，排出树脂/膜之外，浓缩了的离子从废水流路中排出，无离子水从树脂/膜内流出。
 

　　集成电路块超纯水设备流程

　　1、采用离子交换方式

　　流程如下：自来水→电动阀→多介质过滤器→活性炭过滤器→软化水器→中间水箱→低压泵→精密过滤器→阳树脂床→阴树脂床→阴阳树脂混合床→微孔过滤器→用水点

　　2、采用两级反渗透方式

　　流程如下：自来水→电动阀→多介质过滤器→活性炭过滤器→软化水器→中间水箱→低压泵→精密过滤器→一级反渗透主机→PH调节→混合器→二级反渗透主机(反渗透膜表面带正电荷)→纯水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点

　　3、采用高效反渗透加EDI方式

　　流程如下(新工艺性价比高)：自来水→电动阀→多介质过滤器→活性炭过滤器→软化水器→中间水箱→低压泵→PH值调节系统→高效混合器→精密过滤器→高效反渗透→中间水箱→EDI水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点
 

　　集成电路超纯水设备执行标准

　　集成电路体积小，重量轻，可以广泛用在电子产品中。在生产中需要用到超纯水，集成电路超纯水设备出水水质要符合各项标准。首先要达到电子工业部超纯水标准，以及中国国家电子级超纯水GB/TII446.1-1997标准，还要符合美国、德国等其它国家标准。

　　集成电路块超纯水设备特点

　　集成电路块超纯水设备一切动作均在预设程序下自动进行，具备全自动功能(自动制水、自动冲洗、源水缺水/水箱满水自动停机)。

　　1、结构布置紧凑，占地面积小，有效节约空间。

　　2、能耗低，有效节约能源。

　　3、耗材寿命长，制水成本低廉。

　　4、运行可靠，供水管路封闭，出水水质稳定。
 

　　对电子工业生产的要求越高，对集成电路超纯水设备就越高。设备全自动运行无需专人看护，运行费用及维修成本低，运行过程中无需化学药剂再生。我们厂家主要生产专业的超纯水设备，不仅生产集成电路超纯水设备，还生产线路板超纯水设备120t/h，制药用超纯水设备等等，种类多样，质量可靠。