一、120T/H半导体清洗用超纯水设备概述

　　半导体在常温下是介于导体和绝缘体之间的材料，半导体生产和清洗需要对水有一定要求，电阻率要在16兆欧以上。120T/H半导体清洗用超纯水设备采用先进的制水技术，可以有效去除原水中的各种杂质，出水水质可以达到18兆欧以上，完全满足行业用水需求。

超纯水设备
 

　　二、120T/H半导体清洗用超纯水设备水质标准

　　半导体芯片清洗超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
 

　　三、120T/H半导体清洗用超纯水设备制备工艺

　　1、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)

　　2、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)

　　3、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)
 

半导体清洗用超纯水设备
 

　　四、120T/H半导体清洗用超纯水设备应用场合

　　电解电容器生产铝箔及工作件的清洗。

　　电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液。

　　显像管和阴极射线管生产、配料用纯水。

　　黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水。

　　液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液。

　　晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制。

　　集成电路生产中高纯水清洗硅片。

　　半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路。

　　以上是120T/H半导体清洗用超纯水设备的简单介绍。莱特莱德是一家专业从事南宁水处理设备的高科技企业。公司拥有一批长期从事水处理技术研究、应用、实战经验丰富的工程技术人员，凭借先进的技术、高品质的设备、完善的管理、以及遍布全国的销售服务网络，我公司迅速成为国内水处理行业领先，具竞争力的公司之一。